VAT真空控制闸阀64.8

64.8 UHV控制闸阀系列专为半导体生产中的溅射或极紫外光刻等ultra-high真空工艺设计，可实现可靠、准确的控制与隔离。该系列满足耐用性、模块化、密封性及可维护性等标准要求，尤其注重高运行时间和低拥有成本。

64.8系列配备VATLOCK技术，可在阀板无摩擦状态下提供可靠密封。阀板作为节流元件调节阀门开度的导通率。内置压力控制器计算达到设定点压力所需的阀板位置，由步进电机执行驱动动作，编码器实时监测阀板位置，从而实现快速精细的工艺压力控制。独特的VATLOCK锁定机构在关闭状态下确保密封隔离，并在断电时触发故障安全关闭功能。

通过金属阀帽密封、波纹管密封馈通件及硫化阀板密封（可选配O型圈），实现ultra-high真空性能。

64.8型阀门已在数千个严苛工艺条件下成功应用，其卓绝可靠性经受住考验。凭借坚固耐用的无润滑设计，该阀门完全满足高循环真空控制闸阀的所有要求。

64.8 UHV控制闸阀提供多种设计选项，包括密封材料、法兰连接、粗抽（旁通）、排气或仪表接口，以及特殊控制算法（自适应、固定PI下游/软泵），可简化其在各类真空应用中的集成。控制器也可独立于阀门安装。

该系列提供DN 200至250mm（8“至10”）规格，DN 160（6“）和DN 320（12”）规格可按需定制。

可靠、久经考验的ultra-high真空设计

免润滑

VATLOCK技术

坚固不锈钢主体

可靠准确的控制与隔离

延长免维护周期

低拥有成本

半导体制造

溅射工艺：在薄膜沉积过程中，准确控制真空腔体压力，确保薄膜均匀性。

EUV光刻：维持ultra-high真空环境，防止光刻胶污染，提升良率。

科研与高能物理

同步加速器：隔离真空束线，减少气体分子对粒子束的干扰。

空间模拟：模拟太空真空环境，测试航天器材料耐久性。

显示面板制造

OLED蒸发：控制有机材料蒸发速率，优化显示层厚度。