VAT蝶形控制阀61.3

61.3 HV蝶形控制阀具备卓绝的压力控制性能。凭借其快速精细的动作控制器（响应时间0.1秒），该阀门是化学气相沉积（CVD）和原子层沉积（ALD）工艺精细控制的理想解决方案。阀板作为节流元件，可调节阀门开度的导通能力。61.3型阀门内置的压力控制器能快速计算所需阀板位置，以Fastest速度达到设定压力。

该阀门专为含颗粒气流的恶劣下游工艺设计，即使在高颗粒负荷和碎屑堆积条件下仍能保持全功能运行。

61.3系列已在数千个严苛工艺条件下成功应用，其卓绝可靠性经实践验证。凭借坚固结构、直装选项及简易维护特性，该系列产品整体满足各类需求。

通过提供多种设计选项——包括阀体材质、表面处理、弹性体材料、法兰连接方式、特殊尺寸规格以及特殊控制算法（自适应控制、固定PI下游控制/软泵模式）——该系列产品可轻松集成至各类真空应用场景。

61.3 HV蝶形控制阀提供铝制或不锈钢材质，配备ISO-KF和ISO-F标准法兰接口。可集成客户定制法兰及特殊功能，例如带保温层的集成加热器。可根据需求提供多种FFKM/FKM弹性体（FKM为标准配置）。

卓绝的压力控制

极快的运行速度

内置软件支持本地操作

在恶劣工艺条件下仍能可靠运行

更优的工艺可控性

高运行时间/无限制性能

低运营成本

半导体制造

刻蚀设备：在Cl₂/HBr等离子体环境中快速切断腐蚀性气体，Al₂O₃镀层蝶板与双密封结构确保长期耐腐蚀性。

原子层沉积（ALD）：超快响应（＜30ms）匹配前驱体脉冲注入，漏率＜5×10⁻¹⁰ mbar·l/s，保障薄膜纯度。

离子注入机：无磁化钛合金材质避免束流干扰，XHV级密封维持真空环境稳定。

科研真空系统

适用于高真空或ultra-high真空环境，如同步辐射光源、表面分析仪器等，提供稳定可靠的真空隔离与控制。

光伏镀膜

在真空镀膜工艺中控制气体流量，确保薄膜均匀性，适应大规模生产需求。