65.5 HV摆动控制阀提供卓绝的高可控导电率范围。其关键特性还在于平滑的启闭运动,可实现极低的颗粒计数和低颗粒活化水平。
该阀门专为半导体生产工艺中的腐蚀性蚀刻和清洗等恶劣工况设计,在需要高可控导电率范围且初始可控导电率较低的应用场景中表现优异。
65.5阀门提供DN 250mm(10英寸)规格,lowest导通量可控至2 l s⁻¹。凭借32位执行器控制器的数据处理能力,导通量增量可实现极精细调控。其传感器与控制指令处理速度优于同等16位控制器,从而提供更快的执行响应。控制器配备多种标准端口接口,可轻松连接个人电脑或过程控制单元。
摆动闸门机构采用高度坚固的设计,确保能抵御任何工艺副产物的影响。为减少密封件磨损并避免颗粒产生及活化,其启闭运动被分段实施:初始导流阶段通过闸门垂直远离闸座实现,后续导流增强则依靠闸门水平摆动完成。凭借闸门运动的精细可控性,预设运动序列可准确匹配工艺需求。通过专利设计的专用压紧杆将闸门压向阀座,确保闸门各区域均获得均匀密封压力,实现完全密封关闭。
65.5系列采用紧凑设计,支持直接安装及多种其他配置选项,可轻松集成于各类真空工艺流程。
65.5 HV摆动控制阀提供空白或硬质阳极氧化铝材质,配备符合ISO-F和JIS标准的法兰连接件。可集成客户定制法兰,并可加装加热器以满足高达120°C的阀门工作温度需求。
在恶劣工艺环境中实现可靠隔离
低冲击运行,低颗粒活化
工艺惰性——极低残余脱气量(RGA)
快速可调操作
内置压力控制器
仅需单一电源供电,可选配传感器电源
卓绝的压力控制性能
快速运行,几乎无颗粒产生
可根据工艺要求调节

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产地 |
瑞士 |
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尺寸 |
DN 250 (10") |
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执行器 |
带伺服驱动的集成压力控制器 |
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阀体材料 |
铝坯或硬质阳极氧化铝 |
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穿墙件 |
旋转穿墙件 |
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标准法兰 |
ISO-F、JIS |
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安装位置 |
任意 |
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泄漏率阀体 |
铝坯:< 1 × 10⁻⁹ mbar·s⁻¹ |
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硬质阳极氧化铝:< 1 × 10⁻⁵ mbar·s⁻¹ |
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阀座泄漏率 |
铝坯:< 1 × 10⁻⁹ mbar·ls⁻¹ |
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硬质阳极氧化铝:< 1 × 10⁻⁴ mbar·ls⁻¹ |
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压力范围 |
铝坯:1 × 10⁻⁸ mbar 至 1.2 bar (abs) |
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硬质阳极氧化铝:1 × 10⁻⁶ mbar 至 1.2 bar (abs) |
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温度 |
阀体:≤ 120 °C |
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控制器:highest 50 °C(引荐 ≤ 35 °C) |
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材质 |
阀体、阀板:EN AW-6061 (3.2311) T651 |
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其他部件:AISI 316L(1.4404, 1.4435) |
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阀板连接螺钉:SST A4-80,镀镍聚四氟乙烯(Ni-PTFE) |
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密封件 |
阀盖、阀板体穿壁件:氟橡胶(FKM/Viton) |
半导体制造:在腐蚀性刻蚀和清洁工艺中,65.5系列阀门通过精细流导控制,减少粒子污染,提升良品率。
显示器生产:其低冲击运行特性避免对敏感显示层的损伤,确保生产稳定性。
真空传输系统:紧凑设计和可靠密封性能,使其成为真空传输环节的理想选择。